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/ detailed descriptionEDI水处理装置:
EDI超纯水处理设备中的EDI水处理装置,就像反渗透设备上边的反渗透膜是一样的概念,是EDI超纯水设备上必不可少的一个东西,那EDI水处理装置到底是什么呢?在使用中又有哪些特点和要求呢?天宇水处理来为大家解答。
EDI水处理装置介绍:
EDI水处理装置也叫作连续电除盐技术,它科学地把电渗析技术和离子交换技术合二为一,通过阳、阴离子膜对阳、阴离子的选择透过作用以及离子交换树脂对水中离子的交换作用,在电场的作用下实现水中离子的定向迁移,来达到水的深度净化除盐,并通过水电解产生的氢离子和氢氧根离子对装填树脂进行连续再生,因此EDI水处理装置制水过程不需酸、碱化学药品再生即可连续制取高品质超纯水
EDI水处理装置应用范围:
EDI水处理装置具有技术先进、结构紧凑、操作简便的优点,可广泛应用于电力、电子、医药、化工、食品和实验室领域,是水处理技术的绿色。
EDI水处理装置这一新技术可以代替传统的离子交换装置,生产出电阻率高达16-18MΩ·CM的超纯水。
DI水处理装置在EDI超纯水处理设备使用中的特点:
EDI(Electrode ionization)是一种具有意义的水处理技术,它巧妙地将电渗析技术和离子交换技术,无需酸碱的化学再生,而能连续制取高品质的纯水.EDI技术的出现是水处理技术的一次跨越性的进步,代表着水处理行业的发展方向,标志着水处理工业跨入绿色产业的行列.EDI水处理装置这一新技术可以代替传统的离子交换(DI)装置,生产出电阻率高达15-18 MΩ·CM的超纯水。
超纯水工艺流程图:
天宇纯水设备设计图(部分展示):
超纯水水质参考标准:
A:需要用户注意的是,分析数据通常依赖于仪器和技术。因此,表1的数字只是基线。每当半导体行业开发新的线宽时,应对此表进行修订。
B:类型E-1.3中显示的值是将国际半导体技术发展蓝图中己知污染物的风险因素与当前半导体加工中的相关线宽的生产制程进行校准的结果,在某些情况下这些值可能会与类型E-1.2中的值不同。用户如果对E-1.2型水使用更高数值,可以放心使用。
除电阻率外,所有值均等于或小于。
C:硼仅作为监测离子交换床的操作参数进行监测。
备注:以上数据根据英文版ASTM D 5127-2018翻译而成,如有偏差请以英文版原文为准。
EDI水处理装置模块结构特点:
1、淡水隔板采用卫生级PE材料;
2、EDI水处理装置膜片采用进口均相膜和国产异相离子交换膜;
3、采用进口EDI水处理装置专用均粒树脂和国产EDI水处理装置专用均粒树脂;
4、EDI水处理装置电板采用钛镀钌技术 ;
5、压紧板采用具有硬性的合金铝轧铸而成;
6、固定螺丝采用国标标准件;
7、膜堆出厂高试压7bar不漏水 ;
8、膜堆电阻低、功耗小 ;
9、外观装饰板造型美观结实 ;
10、膜堆处理水量3T/H,小模堆处理水量75L/H ;
11、纯水、浓水、通道设计合理,不易堵塞,水流分布均匀、无死角。
EDI水处理装置进水指标要求:
◎通常为单级反渗透或二级反渗透的渗透水
◎TEA(总可交换阴离子,以CaCO3计):<25ppm.
◎电导率:<40μS/cm
◎PH:6.9.0.当总硬度低于0.1ppm时,EDI工作的pH范围为8.9.0.
◎温度:35℃.
◎进水压力:<4bar(60psi).
◎硬度:(以CaCO3计):<1.0ppm.
◎有机物( TOC):<0.5ppm.
◎氧化剂:Cl2<0.05ppm,O3<0.02ppm.
◎变价金属:Fe<0.01ppm,Mn<0.02ppm.
◎H2S:<0.01ppm.
◎二氧化硅:<0.5ppm.
◎色度:<5PHA.
◎二氧化碳的总量:<10ppm
◎ SDI 15min:<1.0.
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