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/ detailed description电子工业制备超纯水的工艺大致分成以下3种:
1、采用离子交换树脂制备电子工业超纯水的传统水处理方式,其基本工艺流程为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→阳床→阴床→混床(复床)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点。
2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合制备电子工业超纯水的方式,其基本工艺流程为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→混床(复床)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点
3、采用反渗透设备与电去离子(EDI)设备进行搭配制备电子工业超纯水的的方式,这是一种制取超纯水的新工艺,也是一种环保,经济,发展潜力巨大的超纯水制备工艺,其基本工艺流程为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→电去离子(EDI)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点
天宇纯水设备设计图(部分展示):
超纯水水质参考标准:
A:需要用户注意的是,分析数据通常依赖于仪器和技术。因此,表1的数字只是基线。每当半导体行业开发新的线宽时,应对此表进行修订。
B:类型E-1.3中显示的值是将国际半导体技术发展蓝图中己知污染物的风险因素与当前半导体加工中的相关线宽的生产制程进行校准的结果,在某些情况下这些值可能会与类型E-1.2中的值不同。用户如果对E-1.2型水使用更高数值,可以放心使用。
除电阻率外,所有值均等于或小于。
C:硼仅作为监测离子交换床的操作参数进行监测。
备注:以上数据根据英文版ASTM D 5127-2018翻译而成,如有偏差请以英文版原文为准。
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